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天津中环电炉股份有限公司
联系人:黄女士
电话:022-26980130 
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邮箱: CTJZH2828@126.COM
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产品用途:

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZNO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品组成:

此款CVD系统配置:

1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。

2.多路质量流量控制系统

3.真空系统(可选配中真空或高真空)

产品特点:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能---,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司---的---设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵

防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。


 

姓名:黄女士
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